Tên sản phẩm: Thiết bị Plasma nhiệt độ thấp
Công nghệ: Plasma khí quyển nhiệt độ thấp
Chức năng chính: Plasma Surgical và Plasma Poration™
Ứng dụng theo tài liệu nhà sản xuất: Hỗ trợ xử lý bề mặt da, khử khuẩn, chăm sóc da, cải thiện nếp nhăn và hỗ trợ đưa hoạt chất qua da.

Công nghệ vận hành

• Sử dụng tần số cao và áp suất cao trong môi trường khí quyển để tạo plasma nhiệt độ thấp.

• Cung cấp các ion plasma thông qua đầu tay cầm.

• Tạo các gốc hoạt tính có khả năng tương tác với bề mặt và cấu trúc sinh học của da.

Chức năng Plasma Surgical

• Hỗ trợ xử lý bề mặt da bằng cơ chế thăng hoa mô tại vùng tác động.

• Được giới thiệu cho các ứng dụng như xử lý một số tổn thương da, sẹo, nếp nhăn và vùng da quanh mí mắt.

• Có các chế độ vận hành gồm chế độ bắn, chế độ xung và chế độ liên tục.

• Có lựa chọn kim phẫu thuật thông thường và kim có hướng dẫn.

Thông số đầu kim Plasma Surgical

• Đường kính vùng tác động được mô tả: Ø0,3 mm.

• Chiều dài: 15 mm.

• Kim có hướng dẫn duy trì khoảng cách khoảng 0,5 mm giữa đầu kim và bề mặt da theo tài liệu sản phẩm.

• Kim có hướng dẫn được mô tả là loại dùng một lần.

Chức năng Plasma Poration™

• Hỗ trợ khử khuẩn bề mặt da.

• Hỗ trợ tăng khả năng thẩm thấu của một số hoạt chất qua da.

• Được giới thiệu cho các ứng dụng chăm sóc da, cải thiện vẻ ngoài của da và hỗ trợ quy trình tái tạo da.

• Có các chế độ bắn, xung và liên tục.

Đầu Plasma Poration™

• Đầu lớn: Đường kính Ø25 mm, diện tích tác động được công bố khoảng 4,9 cm².

• Đầu nhỏ: Đường kính Ø12 mm, diện tích tác động được công bố khoảng 1,1 cm².

• Thời gian sử dụng được tài liệu mô tả: khoảng 60 phút, tương ứng 12–60 lượt khách tùy quy trình.

Lưu ý: Các thông số và ứng dụng trên được tổng hợp từ tài liệu giới thiệu sản phẩm. Cần xác minh model cụ thể, cấu hình, hướng dẫn sử dụng và hồ sơ pháp lý trước khi dùng làm thông số công bố chính thức.